量产设备
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MSP-300C
·科研及小批量生产设备
·支持大样片斜靶共溅射模式
·小靶溅大样片，减少靶材浪费
·适用于φ6英寸-φ12英寸样片 -
MSP-3200
·小批量生产型设备
·双腔体结构，带有Load-Lock进样室，可射频清洗
·进样室预抽真空，改善镀膜环境
·适用于中10英寸及以下样片 -
MSP-400C
·生产型设备
·垂直溅射模式，样片盘公转+自转
·支持离子源清洗，支持高温加热
·适用于φ4英寸-Φ8英寸样片，每炉8片 -
MSP-400D
·科研及生产型设备
·双重模式样片盘，支持公转+自转及公转换位+定点自转
·适用于片状、碗状工件镀膜、孔内壁镀膜，贵重金属材料镀膜
·适用于中4英寸-φ8英寸样片，每炉6-8片 -
MSP-3100
·生产型设备，带有8片装Load-Lock进样室
·垂直溅射模式，样片盘自转+公转
·支持离子源清洗，支持高温加热
·适用于φ4英寸-φ8英寸样片，8片同时溅射 -
MSP-4200
·生产型设备，带有6片装进样室及出样室
·斜靶溅射模式，样片盘自转，减少靶材浪费
·支持离子源清洗和高温加热
·适用于φ4英寸-φ8英寸样片，单片溅射 -
DISC-SP-400C
圆形靶磁控溅射设备，样片大小可达到φ14.5英寸垂直溅射模式，公转+自转及公转换位+定点自转两种模式 -
DISC-SP-5100C
· 立式矩形/旋转靶镀膜机，大型生产设备
· 特殊换靶方式快速换靶
· 支持高温加热
· 内部为10-20棱柱结构，每炉可镀样片约40-120片适用于2-4英寸片状样片镀膜 -
MSP-5100B
·立式矩形/旋转靶镀膜机，大型生产设备
·特殊换靶方式快速换靶
·支持高温加热
·每炉可镀样品40-80根
·适用于棒状、丝状样片镀膜及片状样片双面溅射镀膜