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创世威纳专业生产镀膜机、刻蚀机及其它定制真空设备
创世威纳的镀膜设备基于磁控溅射技术，即等离子体放电产生惰性气体（Ar）离子，Ar离子排出钯材后，将钯材的原子或分子溅射出来，堆积积到对面的衬底上成膜，镀膜冲洗肥肥的背面安装磁铁，沿着肥材的面形成磁场，电子在磁场中作螺旋运动，提高Ar离子的离化率。
创世威纳的标准刻蚀设备均为干法刻蚀设备，主要分为四类：离子束刻蚀IBE,反应离子束刻蚀RIBE,反应离子刻蚀RIE,感应耦合等离子体刻蚀ICP。
创世威纳拥有优秀的项目管理机制和完善的供应链系统，专业的真空腔体加工厂及国内外配件供应商保持长期合作关系证项目的进程与质量，让用户在合适的时间拿到合格的产品。根据项目情况公司可提供工艺服务及支持。
创世威纳还有其他基于真空技术和等离子体技术的标准化设备。例如真空退火/烘烤炉、氧等离子体去胶/清洗机和超高真空陀螺排气台等,均有不错的销量。
科研型设备设计轻巧，操作简便，标准化程度高，功能集成度高，支持多种实验模式及样片尺寸，满足客户多样化的研究需求。
生产设备抽真空迅速，材料利用率高，支持大样片镀膜及刻蚀，大幅节省生产时间并减少不必要的浪费，提高产量及生产效率，节约客户成本。
