RIE正反应离子刻蚀机&ICP感应耦合等离子体刻蚀机
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DISC-RIE-601/801/1201
·科研及生产型设备，工业设计外观
·支持氟基反应离子刻蚀
·刻蚀距离在线调节，水冷及He冷可选
·可刻蚀Φ6英寸-Φ12英寸的片状样品 -
DISC-RIE-8100/8101
·科研及生产型设备，工业设计外观，带有进样室
·支持氯基(8101)或氟基(8100)反应离子刻蚀
·刻蚀距离在线调节，支持水冷
·适用于6英寸，Φ8英寸片状样品 -
RIE-400/800
·生产型设备
·支持氟基的反应离子刻蚀，光刻胶微结构修正
·刻蚀距离在线调节，支持水冷
·适用于最大800mm×800mm方片样品 -
DISC-ICP-601/801/1201
·科研及生产型设备，工业设计外观
·支持氟基感应耦合等离子体刻蚀
·刻蚀距离在线调节，水冷及He冷可选
·可刻蚀Φ6英寸-Φ12英寸的片状样品 -
DISC-ICP-8100/8101
·科研及生产型设备，工业设计外观，带有进样室
·支持氯基(8101)或氟基(8100)感应耦合等离子体刻蚀
·刻蚀距离在线调节，支持水冷
·适用于Φ6英寸，Φ8英寸片状样品