MSP-400E型： 半球、圆锥、碗状、异形工件均匀镀膜设备
产品详情
·大口径双离子束溅射镀膜机
·支持样品最大尺寸φ400mm两片/φ300mm三片/φ200mm四片
·主离子源Φ16cm或φ22cm,辅助离子源φ12cm或φ16cm
·支持光控、晶控、在线监控
·镀膜不均匀性±1%-±3%
·大口径双离子束溅射镀膜机
·支持样品最大尺寸φ400mm两片/φ300mm三片/φ200mm四片
·主离子源Φ16cm或φ22cm,辅助离子源φ12cm或φ16cm
·支持光控、晶控、在线监控
·镀膜不均匀性±1%-±3%
