反应离子刻蚀机厂家分享什么是等离子刻蚀机

　　等离子刻蚀机也被称为等离子蚀刻机、等离子平面蚀刻机、等离子蚀刻机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子体蚀刻是干燥蚀刻中常见的形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，它释放由此产生的电离气体和高能电子组成的气体，形成等离子体或离子，电离气体原子通过电场加速时，释放出足够的力，与表面驱逐力紧密粘合或蚀刻表面。在某种程度上，等离子清洗基本上是等离子蚀刻的轻微情况。执行干法蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件由真空泵提供给抽空的反应室。气体被引入，与等离子体交换。等离子体在工件表面反应，反应的挥发性副产品由真空泵抽取。等离子蚀刻工艺其实是一种反应性等离子体工艺。近的发展是在反应室内部设置为架子形式，具有灵活性，用户可以卸下架子，组成适当的等离子体蚀刻方法(反应等离子体(RIE)、下游等离子体(downstream)、直接等离子体(direction  plasma))。

　　影响因素

　　–气压（Pressure）。

　　–温度（Temperature）提高温度会提高刻蚀率。

　　–Micro-loading

　　–刻蚀后腐蚀（Post-etch corrosion）。

　　–残留物（residual）。

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