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首页 > 产品中心 > Discovery系列高端设备
  • DISC-SP-3200型磁控溅射镀膜机

    DISC-SP-3200型磁控溅射镀膜机

    特点:DISC-SP-3200型:倾斜共溅射,单片送取样室(Load-Lock) 应用方向:科研与教学 产品优势:倾斜共溅射,单片送取样室(Load-Lock)

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  • DISC-ICP-8100型感应耦合等离子体刻蚀机

    DISC-ICP-8100型感应耦合等离子体刻蚀机

    特点:耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock); 应用方向:科研与教学产品优势:耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)

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  • DISC-ICP-601型感应耦合等离子体刻蚀机

    DISC-ICP-601型感应耦合等离子体刻蚀机

    特点:DISC-ICP-601:耐氟基或更弱气体腐蚀 应用方向:科研与教学产品优势:耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★刻蚀材料:包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、

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  • DISC-IBE-150C/200C型离子束刻蚀机

    DISC-IBE-150C/200C型离子束刻蚀机

    特点:DISC-IBE-150C/200C型: 负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,腔体前后开门 应用方向:科研与教学产品优势:负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,刻蚀腔体前后开门产品配置:★离子源种类:考夫曼离子源★离子源口径:Φ160mm/22

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  • DISC-RIE-601反应离子刻蚀机

    DISC-RIE-601反应离子刻蚀机

    特点:DISC-RIE-601:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱气体腐蚀 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★刻蚀材料:包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、S

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  • DISC-ICP-8101型感应耦合等离子体刻蚀机

    DISC-ICP-8101型感应耦合等离子体刻蚀机

    特点:DISC-ICP-8101:氯基专用刻蚀设备,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock) 应用方向:科研与教学产品优势:耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★刻蚀材料:包括并不限于GaN、Ga

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  • DISC-RIE-8100型反应离子刻蚀机

    DISC-RIE-8100型反应离子刻蚀机

    特点:DISC-RIE-8100:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock) 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★刻蚀材料:

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  • DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机

    DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机

    特点:DISC-RIE-8101:氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock) 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★刻蚀材料:

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