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首页 > 产品中心 > 离子束刻蚀机
  • DISC-IBE-150C/200C型离子束刻蚀机

    DISC-IBE-150C/200C型离子束刻蚀机

    特点: 负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,腔体前后开门 应用方向:科研与教学产品优势:负角度刻蚀降低反污染,热

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  • MIBE-150/200A型离子束刻蚀机

    MIBE-150/200A型离子束刻蚀机

    特点: 负角度片状样品刻蚀,冷态中和系统 应用方向:科研与教学产品优势:负角度刻蚀,冷态中和系统 产品配置:★离子源种类:考夫曼离子源

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  • MRIBE-150型离子束刻蚀机

    MRIBE-150型离子束刻蚀机

    特点:反应离子束刻蚀设备,离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力应用方向:科研与教学产品优势:离子束物理刻蚀能力+化学反应能力

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  • MIBE-150/200B型离子束刻蚀机

    MIBE-150/200B型离子束刻蚀机

    特点: 负角度片状+棒状样品刻蚀,冷态中和系统,刻蚀大尺寸样品 应用方向:科研与小批量生产产品优势:负角度片状+棒状样品刻蚀,冷态中

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  • MRIBE-300M型离子束刻蚀机

    MRIBE-300M型离子束刻蚀机

    特点:反应离子束刻蚀设备,离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力 应用方向:科研与教学产品优势:离子束物理刻蚀能力+化学反应能

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