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  • DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机

    DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机

    名称:DISC-RIE-8101:氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速

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  • DISC-RIE-8100:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)

    DISC-RIE-8100:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)

    名称:DISC-RIE-8100:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,

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  • DISC-RIE-601型反应离子刻蚀机

    DISC-RIE-601型反应离子刻蚀机

    特点:DISC-RIE-601:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱气体腐蚀 名称:DISC-RIE-601:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱气体腐蚀应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置:★样片数量及尺

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  • RIE-400型反应离子刻蚀机

    RIE-400型反应离子刻蚀机

    名称:RIE-400型:去胶+修胶+刻蚀,针对大尺寸片状样品应用方向:批量生产产品优势:去胶+修胶+刻蚀,针对大尺寸片状样品产品配置:★样片数量及尺寸:1片45

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  • RIE-601反应离子刻蚀机

    RIE-601反应离子刻蚀机

    特点:RIE-601型: 刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱腐蚀性气体 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置:★样片数量及尺寸:

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  • RIE-5100型反应离子刻蚀机

    RIE-5100型反应离子刻蚀机

    特点:RIE-5100型:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带单片送取样室(Load-Lock)生产厂家|价格|品牌-北京创世威纳科技 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带单片送取样室(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸:

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  • RIE-5101型反应离子刻蚀机

    RIE-5101型反应离子刻蚀机

    特点:氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带单片送取样室(Load-Lock)应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方

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  • RIE-8100型反应离子刻蚀机

    RIE-8100型反应离子刻蚀机

    特点:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,耐氟基或

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  • RIE-8101型反应离子刻蚀机

    RIE-8101型反应离子刻蚀机

    特点:氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock) 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方

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  • RIE-1201型反应离子刻蚀机

    RIE-1201型反应离子刻蚀机

    特点:大样品刻蚀,选择比高 应用方向:科研与小批量生产 产品优势:大样品刻蚀,选择比高★样片数量及尺寸:1片12英寸样片★刻蚀腔体:高真空系统★

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