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  • PECVD-601型: 高性能薄膜制备

    PECVD-601型: 高性能薄膜制备

    应用方向:科研与教学产品优势:高性能薄膜制备产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★沉积材料:包括并不限于硅基(Si)薄膜、碳基(C)薄膜、硅锗合金(SiGe

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  • PECVD-8100型等离子体化学气相沉积设备

    PECVD-8100型等离子体化学气相沉积设备

    特点:高性能薄膜制备,带有双片样品库(Load-Lock) 应用方向:科研与小批量生产产品优势:高性能薄膜制备,带有双片样品库(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★沉积材料:包括并不限于硅基(S

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  • PECVD-802L型等离子体化学气相沉积设备

    PECVD-802L型等离子体化学气相沉积设备

    特点:带单样品送取室(Load-Lock),特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用 应用方向:科研与教学产品优势:带单样品送取室(Load-Lock),特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★沉积材料:包括

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  • PECVD-4000型等离子体化学气相沉积设备

    PECVD-4000型等离子体化学气相沉积设备

    特点:三个沉积室+单样品送取样室,特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用 应用方向:科研与小批量生产产品优势:三个沉积室+单样品送取样室,特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用产品配置:★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸★沉积材料:包括并不

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