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RIE-5100型反应离子刻蚀机

RIE-5100型反应离子刻蚀机

产品详情

名称:RIE-5100型:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带单片送取样室(Load-Lock)

应用方向:科研与教学

产品优势:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带单片送取样室(Load-Lock)

产品配置:

★样片数量及尺寸:1片Ф6英寸

★刻蚀材料:包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蚀腔体:高真空系统

★Load-Lock:低真空系统 或 高真空系统。单片装,样品自动运送。

★刻蚀不均匀性:±3%-±6%

★刻蚀速率:0.1-4μm/min(视具体材料与工艺)

★工作台:可升降,包含水冷

★电源配置:下电极偏压,包含自动匹配

★气路数量与种类:4路耐氟基腐蚀气路 或 用户选配

★He冷背吹系统:可选配

★终点检测控制:可选配质谱仪

★操作模式:全自动+半自动控制

类似产品:刻蚀6英寸样片(RIE-601) 

设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。


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