北京创世威纳科技有限公司
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特点：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氟基或
特点：氯基专用刻蚀设备，刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock） 应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方
特点：大样品刻蚀，选择比高 应用方向：科研与小批量生产 产品优势：大样品刻蚀，选择比高★样片数量及尺寸：1片12英寸样片★刻蚀腔体：高真空系统★
特点： 负角度刻蚀降低反污染，热态、冷态两种中和系统，腔体前后开门 应用方向：科研与教学产品优势：负角度刻蚀降低反污染，热
特点： 负角度片状样品刻蚀，冷态中和系统 应用方向：科研与教学产品优势：负角度刻蚀，冷态中和系统 产品配置：★离子源种类：考夫曼离子源
特点：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力应用方向：科研与教学产品优势：离子束物理刻蚀能力+化学反应能力
特点： 负角度片状+棒状样品刻蚀，冷态中和系统，刻蚀大尺寸样品 应用方向：科研与小批量生产产品优势：负角度片状+棒状样品刻蚀，冷态中
特点：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力 应用方向：科研与教学产品优势：离子束物理刻蚀能力+化学反应能
特点： 效率高+多功能；垂直溅射+倾斜共溅射应用方向：科研与教学产品优势：效率高+多功能；垂直溅射+倾斜共溅射产品配置：★样片数量及尺寸：6
特点：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）产品
特点： 倾斜共溅射，大尺寸片状样品+小批量生产应用方向：科研与教学产品优势：倾斜共溅射，大尺寸片状样品镀膜+小批量生产产品配置：★样片数量及
特点：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）产品配置：★
