山东创世威纳科技有限公司
线路一:
杨文龙:15288880063
王长梗:13910555133
线路二:
王同舟:13439433628
徐靖:13718812151
技术咨询:
葛连朋:17746506065售后服务:
徐靖: 13718812151
企业邮箱:chuangshiweina@sina.com
地址:北京市昌平区史各庄街道国际信息产业基地高新二街6号3层山东省济南市历下区丽山生物制药产业园B2栋1-3层
特点: 负角度刻蚀降低反污染,热态、冷态两种中和系统,腔体前后开门 应用方向:科研与教学产品优势:负角度刻蚀降低反污染,热
特点: 负角度片状样品刻蚀,冷态中和系统 应用方向:科研与教学产品优势:负角度刻蚀,冷态中和系统 产品配置:★离子源种类:考夫曼离子源
特点:反应离子束刻蚀设备,离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力应用方向:科研与教学产品优势:离子束物理刻蚀能力+化学反应能力
特点: 负角度片状+棒状样品刻蚀,冷态中和系统,刻蚀大尺寸样品 应用方向:科研与小批量生产产品优势:负角度片状+棒状样品刻蚀,冷态中
特点:反应离子束刻蚀设备,离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力 应用方向:科研与教学产品优势:离子束物理刻蚀能力+化学反应能