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化学气相沉积设备

化学气相沉积设备

产品详情

       化学气相沉积设备主要由反应室、供气系统和加热系统组成。反应室是CVD中最基本的部分,常采用石英管制成,其壁可分为热态和冷态。 

      在室温下,进行化学气相沉积的原料不一定都是气体,如果源物质有液态原料,需加热形成蒸汽或气态反应剂反应,形成气态物质导入沉积区,由载流气体携带入炉;如果源物质有固体原料,一般是通过一定的气体与之发生气—固或气—液反应,形成适当的气态组分,将产生的气态组分输送入反应室,在这些反应物载入沉积区之前,一般不希望它们之间相互反应,因此,在低温下会相互反应的物质在进入沉积区之前应隔开。 

      前两种类型是反应器壁和原料都不加热,即所谓的冷壁反应器,一般地,这类反应器的反应物在室温下是气体或者具有较高蒸汽压的物质;后两种类型的原料区和反应器壁是加热的,即所谓的热壁反应器,反应器的加热是为了防止反应物的冷凝。

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