北京创世威纳科技有限公司
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MPR-6型:大尺寸片状样品去胶 ,均匀性高
应用方向:科研与教学
产品优势:大尺寸片状样品去胶 ,均匀性高
产品配置:
★样品数量及尺寸:1片Φ6英寸(或以下)
★腔体:低真空系统
★刻蚀材料:光刻胶、聚酰亚胺、Si基(Si、SiO、SiN)等材料
★去胶速率:100~500nm/min
★电源配置:射频
★操作模式:全自动+半自动控制
设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。