磁控溅射镀膜机如何提高效率？

磁控溅射镀膜机如何提高效率？

    磁控溅射镀膜机如何提高效率？接下来小编为大家介绍一下，希望对大家能有所帮助。

    当采用磁控溅射镀膜机时，采用了常规溅射方法，发现溅射效率均不太高。为提高溅射率，可加快工作速度。

    因此，应该如何提高这个装置的效率呢？因此必须提高气体的物理化学效率。提高气体的离化率可以有效地提高溅射效率。

   一般情况下，溅射过程中，当入射离子加速轰击靶材阴极表面时，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，并与中性气体原子碰撞，产生自持的辉光放电所需的离子。当电子能量增加时，电子平均有程增加，而电子能量降低时，尤其是当电子距离阴极较远时，电子的热壁损失也很大，这主要是由于其离化效率低所致。

   这样，在平行阴极表面加入磁场，就能将电子限制在阴极范围内，能有效地提高气体原子的物理和化学效率，从而提高磁控溅射镀膜机的溅射效率。

   以上就是小编为大家介绍的磁控溅射镀膜机内容，希望对大家能有所帮助。

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