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离子束刻蚀机厂家分享电子回旋共振等离子体机台

离子束刻蚀机厂家分享电子回旋共振等离子体机台:

       电子回旋共振等离子体蚀刻机台是利用高類微波产生等离子体。图2.15是机台示意图,在磁场作用下,电子的回旋半径远小于离子,所以电子会受磁场约束,环绕磁力线做回旋运动相对来说,离子则不会受到明显的影响而独立运动。如式(2-3)所示,电子回旋率是由磁场强度决定的。对于特定的外加高功率微波,当做波的率与电子回旋频率一致时,电子就会发生共振,从而获得磁场所传递的微波能量。在微波率固定前提下,在反应腔室,磁力线自上而下向周围发散。磁场强度相应地逐渐降低,在磁场强度的分布函盖了共振磁场强度值的情况下,产生等离子体的位置也就固定了。对于率为2.45GHz的微波能量,电子回旋共振的磁场强度为875G(高斯)。在电子回旋共振等离子体蚀刻腔室中,微波能量以及磁场强度是电子回旋共振等离子体蚀刻腔室的两个最重要的调控参数。微波能量的大小可以决定等离子体密度,磁场强度的调节,即调节磁场强度为875G的电子共振区域位置,就可以调节等离子体产生区域与晶圆的距离。可以改变离子的能量分布与入射角度分布。低气压是等离子体发展方向之一。在较低的气压下,离子在击到晶圆前的碰撞会减少,进而减少散射碰撞,可以优化离子入射角度,得到比较精确的蚀刻结果。