磁控溅射镀膜机特点及应用

磁控溅射镀膜机是一种多功能设备，高效涂装设备。可用于陶瓷、玻璃、石英、硅片和其他基材溅在金属上、非金属、氧化物、薄膜等材料。

产品描述：

磁控溅射镀膜机特点：

●有多个溅射目标，可以单层沉积，多层薄膜，合金膜和掺杂膜。

●溅射法：自下而上溅射法，可选择自上而下溅射。

●可加热的单晶膜。

●离子源辅助清洗离子源，有效提高膜附着力。

磁控溅射镀膜机技术指标：

●目标数：2-4。

●2-8英寸基板尺寸。

●基片台转速：5-30rpm，连续可调速度。

特点：

●卧室双腔结构，工件盘安装在给料室，溅射膜扫描溅射膜。

●预抽真空进料室，保证良好的真空环境，实现连续生产。

●配置基板烘烤，清洗功能。

●用户拥有多级操作权限，一键自动流程操作，可查询历史数据。

●目标材料利用率高。

应用范围：

各种金属表面涂有各种金属，非金属，化合物等薄膜材料。