​反应离子刻蚀机知识点科普

反应离子刻蚀机具有成熟的技术能力，可将基温保持在50℃以下。深沟可以通过倾斜和旋转将其切割成斜角，并且可以通过控制侧壁轮廓和径向来提高均匀性。对于大型基底，我们配置线性离子源。通过扫描，我们可以实现均匀的离子束蚀刻或反应性离子束蚀刻。不同的结构和应用可以选择不同的可选项目。如果蚀刻后需要立即涂层，可以添加溅射选项。对于标准晶圆，也可以选择自动装卸晶圆。

全自动PC控制可通过触摸屏电脑和LabView软件实现，具有高度可重复性和友好的用户界面。

反应离子刻蚀机具有完整的安全联锁功能，提供四级密码授权访问保护，防止用户越权使用，包括：

1、操作者权限：操作程序。

2、工匠权限：添加/编辑和删除程序。

3、工程师权限：可独立控制子系统，可开发程序。

反应离子刻蚀机支持无限数量的工艺菜单，每套工艺菜单可根据需要支持1至100个工序(步骤)，可实现简单操作完成复杂工序。

系统标准配置包括涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达到10-7torr级(可升级为10-8torr级)。通过分子泵与空腔之间的直接连接设计，系统可以在12小时内获得较佳的真空传导率，达到空腔极限真空。涡轮速度由PC自动控制，空腔压力调节全自动，快速稳定。双真空计配置可以实现全局真空测量和精确测量。

对于标准晶圆，Autol/UL可以支持单片或25片Casstete，可以自动取样、对准和取样，样品可以在不间断工艺真空的情况下连续处理。LoadLock腔配有由PC自动监控的独立真空系统。

NMC技术可以在一个系统的两个腔内完成两个不同的过程，如果离子铣削过程需要立即反映离子蚀刻处理。如果添加自动传输，整个处理过程也可以在不破坏彼此真空的情况下实现非常有效的处理。