反应离子刻蚀机原理及结构

基本原理

      感应耦合等离子刻蚀机是有机化学全过程和物理学全过程相互功效的結果。它的基本概念是在真空泵气压低下，ICP频射开关电源造成的频射輸出到环状藕合电磁线圈，以一定占比的混和刻蚀汽体经藕合辉光放电，造成密度高的的等离子技术，在下电级的RF频射功效下，这种反应离子刻蚀机对基片表层开展负电子，基片图型地区的半导体器件的离子键被切断，与刻蚀汽体转化成挥发物化学物质，以汽体方式摆脱基片，从真空管路被吸走。

构造

ICP机器设备关键包含预真空室、刻蚀腔、气路系统软件和超滤装置四一部分。

（1）预真空室

预真空室的功效是保证刻蚀腔内保持在设置的真空值，不会受到外部自然环境（如：烟尘、水蒸气）的危害，将危险因素汽体与净化车间防护起来。它由后盖板、机械臂、传动机构、防护门等构成。

（2）刻蚀内腔

刻蚀内腔是ICP刻蚀机器设备的关键构造，它对刻蚀速度、刻蚀的平整度及其表面粗糙度常有立即的危害。刻蚀腔的关键构成有：上电级、ICP频射模块、RF频射模块、下电级系统软件、温度控制系统软件等构成。

（3）气路系统软件

气路系统软件是向刻蚀内腔运输各种各样刻蚀汽体，根据压力控制器（PC）和品质流量控制器（MFC）精确的操纵汽体的水流量和总流量。汽体供货系统软件由气动阀门瓶、汽体运输管路、自动控制系统、混和模块等构成。

（4）超滤装置

超滤装置有两个，各自用以预真空室和刻蚀内腔。预真空室由机械泵独立真空包装，只能在预真空室真空值做到预设值时，才可以开启防护门，开展传输片。刻蚀内腔的真空泵由机械泵和分子泵相互出示，刻蚀内腔反映转化成的汽体也由超滤装置排尽。