北京创世威纳科技有限公司
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名称:RIE-1201型:大样品刻蚀,选择比高
应用方向:科研与小批量生产
产品优势:大样品刻蚀,选择比高
★样片数量及尺寸:1片12英寸样片
★刻蚀腔体:高真空系统
★刻蚀速率:0.1-4μm/min(视具体材料与工艺)
★电源配置:射频电源,包含自动匹配
★终点检测控制:可选配质谱仪
★操作模式:全自动+半自动控制
设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。