工艺服务
- ★ 薄膜生长服务
PECVD生长各种非金属薄膜，如：SiN，SiQ2，多晶Si，非晶Si，SiC，DLC等。
磁控溅射生长各种金属薄膜，如Al，Cu，Ni，Cr，Ti，Pt，Au，Ta，Ag等。
磁控溅射生长各种合金薄膜，如：Ni-Cr，Ni-Si等。
磁控溅射生长各种非金属薄膜，如：SiO2，ZnO，ZnS，SiN，Al2O3等。
- ★ 刻蚀图形服务
IBE刻蚀：各种金属材料、合金材料刻蚀；图形线条小于1 μm的材料刻蚀；
对刻蚀陡直性、粗糙度指示要求较高的刻蚀。
RIE刻蚀：Si、SiN、SiO2、非晶Si刻蚀；去胶。
ICP刻蚀：深硅刻蚀；SiN、SiO2、非晶Si刻蚀。
湿法腐蚀服务。
- ★ 光刻服务
¢4英寸光刻机，单面曝光、双面对准单面曝光，线条精度 1μm。
- ★ 工艺测试服务
台阶仪测厚
扫描电镜检测图形形貌
高倍数字显微镜检测图形形貌
- ★ 特殊要求工艺服务
- ★ 工艺培训